天域半導體碳化硅基地廢氣治理
碳化硅外延片在生產過程中外延檢修、清洗、供應間廢氣，廢氣成分主要為非甲烷總烴、多種酸霧、氨氣等，采用預處理+兩級活性炭深度吸附和酸堿塔吸收治理工藝。
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泛半導體行業廢氣治理解決方案
芯片晶圓酸堿 VOCs 廢氣一站式處理方案
方案概述
泛半導體行業涵蓋原材料、設備、芯片、顯示、光伏、照明等全產業鏈，廢氣主要產生于電子化學品生產、CVD、刻蝕、清洗、顯影等工序，污染物包含酮醇烴類 VOCs、酸堿廢氣、氟化物、氯化氫、氨、硅烷、磷化氫、砷化氫、PFCs 特氣及各類惰性氣體，具有高毒有害、成分復雜、濃度波動大等特點，是行業環境安全管控的核心。泛半導體廢氣治理存在多重難點：廢氣含自燃、劇毒、強腐蝕特種氣體與酸堿、VOCs 混合污染物，處理難度極高；系統對密封性、防爆性、運行可靠性要求嚴苛；需焚燒、洗滌、吸附、回收多工藝精密協同，設計容錯率極低，需專業精密化治理方案實現高危廢氣無害化轉化。
干式吸附設備（Dry Scrubber）
泛半導體生產中，離子注入、刻蝕、MOCVD、CVD等核心工序，會產生Cl?、HCl、HF、PH?、SiF?、NH?、AsH?等劇毒、強腐蝕、濃度波動大的特種工藝廢氣。我司采用自研干式吸附設備（Dry Scrubber），搭配定制化高效吸附劑，凈化效率可達 99.9%；有害氣體被吸附固化為穩定固態物質，尾氣匯入多級酸堿洗滌 + 吸附中央處理系統深度凈化。該干式吸附治理方案安全可靠：全干式無廢水、無明火，規避燃爆風險；搭載多重安全聯鎖與自動化監測；吸附劑按需定制，凈化性能優異；具備節能低碳、防腐耐用、數字孿生智控等優勢，吸附劑壽命長，有效降低泛半導體廢氣治理綜合運維成本。
水洗設備（Wet Scrubber）
半導體與光伏電池生產中，擴散、LPCVD、PECVD、MOCVD、刻蝕、外延等工序，會產生Cl?、HCl、HF、NH?等強腐蝕性酸堿廢氣，需高效凈化處理。針對該類廢氣，我司自研水洗設備（Wet Scrubber），采用六級及以上多級水洗室，讓廢氣與洗滌液充分接觸，凈化效率達 99% 以上；可單獨處理酸堿廢氣，或作為后端單元去除燃燒后SiO?、HF等二次污染物，尾氣匯入多級酸堿塔 + 吸附中央系統深度治理。水洗設備配置噴淋水洗 + 除霧結構，搭載 PLC 智能控制系統，支持自動 / 手動運行；具備防腐耐用、電耗低、廢水少、低碳節能優勢，融合數字孿生智控技術，實現設備全生命周期精細化管理，適配泛半導體廢氣治理嚴苛工況。
電熱水洗設備（Heat Wet Scrubber）
半導體與光伏生產的擴散、PECVD、MOCVD、刻蝕、外延等工序，會產生H?、SiH?、HCl、TEOS、CO、CH?等易燃易爆特氣廢氣，需安全穩定治理。針對此類廢氣，我司自研電熱水洗設備（Heat Wet Scrubber），專為難溶、易結晶半導體特種氣體設計；通過高溫裂解燃燒 + 高效水洗深度處理，可分解 1000℃以內可裂解特氣，凈化效率達 99.9%，尾氣接入多級酸堿塔 + 吸附中央系統達標排放。設備搭載多重安全聯鎖與自動化監測，可定制適配不同特氣；內置旋流緩沖結構防粉塵堆積，采用強化防腐材質；結合數字孿生智控技術，實現全生命周期管控，滿足泛半導體廢氣治理高安全、高可靠要求。
電熱水冷設備（HC Scrubber）
芯片、光伏、LED行業GaN、MOCVD等制程，會產生高濃度氫氣、氨氣廢氣，存在易燃易爆、臭氣超標等安全隱患。針對該類工況，我司自研電熱水冷設備（HC Scrubber），專為氫氣、氨氣治理定制；通過電加熱裂解 + 高溫燃燒 + 多級冷凝處理廢氣，凈化效率可達 99.9%，尾氣匯入多級酸堿塔 + 吸附中央系統深度達標。設備搭載自動化監測與多重安全聯鎖，全程可控；采用循環冷卻水、無廢水排放，防腐耐用；融合數字孿生智控技術，實現設備全生命周期精細化管理，適配泛半導體廢氣治理高安全標準。
等離子水洗設備（Plasma Wet Scrubber）
半導體與顯示面板制造的擴散、刻蝕、化學氣相沉積等工序，會產生CF?、NF?等全氟化合物（PFCs）。該類氣體化學鍵穩定、極難降解，是泛半導體行業重點治理難題。針對PFCs 廢氣治理痛點，我司自研等離子水洗設備（Plasma Wet Scrubber），采用等離子裂解 + 濕式吸收兩段式工藝。通過低溫等離子體高能電子轟擊斷裂 C-F 強化學鍵，配合自由基氧化徹底降解穩定廢氣，高溫反應分解污染物后，再經濕式洗滌塔深度凈化，凈化效率可達 99.9% 以上，可替代適配常規電熱水洗工況，處理后尾氣接入多級酸堿塔 + 吸附中央處理系統達標排放。設備搭載全自動監測系統，聯動多重安全聯鎖，全程可控運行；采用強化防腐材質、適配復雜腐蝕工況；融合數字孿生智控技術，實現設備全生命周期智能管控，高效解決泛半導體 PFCs 廢氣治理難題。
硅烷燃燒水洗塔
太陽能電池、集成電路等高端制造中，PECVD工序會產生硅烷（SiH?）、氨氣（NH?）廢氣。其中硅烷遇空氣易自燃、爆炸，氨氣具備強刺激性與毒性，存在極大安全隱患與環保風險，需定制化高效治理。針對硅烷、氨氣廢氣治理需求，我司自研硅烷燃燒水洗塔，采用高效燃燒 + 多級吸收核心工藝，集成燃燒、吸收、清灰系統，廢氣凈化效率高達99.99%。
1、高效燃燒分解含硅烷、氫氣、磷烷的廢氣進入燃燒室，利用硅烷自燃特性充分氧化分解，生成穩定二氧化硅粉塵，同步徹底凈化各類可燃危險廢氣組分。
2、多級洗滌吸收燃燒后的高溫尾氣含粉塵、殘留氨氣等污染物，進入多級水洗塔，通過氣液逆流充分接觸，完成冷卻、除塵、中和、吸收四重深度凈化，尾氣接入中央處理系統達標排放。
硅烷燃燒水洗塔搭載全自動溫控、壓控系統，配置氮氣保護、泄爆裝置，安全系數極高；無需外加燃料、能耗極低，綠色低碳；設備結構緊湊、處理風場穩定；結合數字孿生智控技術，實現設備全生命周期智能運維，完美適配光伏、半導體高危工藝廢氣治理工況。
