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在芯片、光伏、LED等生產過程中，氫氣的使用量逐漸增加，涉及到的制程主要有GaN、MOCVD（金屬有機化學氣相沉積）等，產生的高濃度氫氣和氨氣，存在安全風險和臭氣超標風險。

針對這一挑戰，天得一采用自研的電熱水冷設備（HC Scrubber），本設備專門針對氫氣、氨氣處理設計，核心原理是先通過電加熱高溫裂解氨氣，然后再進入燃燒區域進行高溫燃燒，產生的高溫尾氣經過多級冷凝后達標排放，對廢氣的凈化效率可高達99.9%。

1. 安全穩定：采用自動化控制，進行溫度、壓力、流量等監測，聯動擴撒、調溫、降溫、報警、停機等多重安全聯鎖，確保全程受控；
2. 高效凈化：針對氫氣和氨氣定制化設計，凈化效率可高達99.9%；
3. 無廢水產生：設備無水洗單元，僅使用循環冷卻水，不產生廢水；
4. 耐腐蝕：采用強化防腐設計，具有優良的耐腐蝕性能；
5. 智控孿生賦能：融合數字孿生與集中智制優勢，通過感知矩陣、多維交互、場景化智控等技術，實現設備全生命周期深度賦能。

適用于在芯片、光伏、LED等生產過程中，GaN、MOCVD（金屬有機化學氣相沉積）等工序產生的高濃度氫氣和氨氣廢氣治理。