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在半導體與光伏電池生產的擴散（Diffusion）、低壓化學氣相沉積（LPCVD）、等離子增強型化學氣相沉積（PECVD）、金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）、刻蝕（Etch）、外延（EPI）等關鍵工序中，會產生Cl?、HCl、HF、NH?等多種強腐蝕性酸堿廢氣，必須進行高效處理。

針對這一挑戰(zhàn)，天得一采用自主研發(fā)的水洗設備（Wet Scrubber）。該設備通過專業(yè)設計使廢氣與水充分接觸，采用多級（六級及以上）水洗室進行綜合吸收，凈化效率可達99%以上。該設備在泛半導體行業(yè)中，常用于單獨處理酸堿廢氣，或作為后端處理單元，高效去除燃燒式設備處理廢氣后產生的SiO?、HF等二次污染物。

1. 高效：采用六級噴淋水洗室+一級綜合除霧室，凈化效率可高達99%；
2. 自動化：設備配置西門子PLC人機界面，自動/手動兩種運行模式；
3. 節(jié)能低碳運行：設備運行電耗低、廢水量少，符合綠色低碳的運營目標；
4. 耐腐蝕：采用強化防腐設計，具有優(yōu)良的耐腐蝕性能；
5. 智控孿生賦能：融合數(shù)字孿生與集中智制優(yōu)勢，通過感知矩陣、多維交互、場景化智控等技術，實現(xiàn)設備全生命周期深度賦能。

適用于半導體與光伏電池生產的擴散（Diffusion）、低壓化學氣相沉積（LPCVD）、等離子增強型化學氣相沉積（PECVD）、金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）、刻蝕（Etch）、外延（EPI）等關鍵工序產生的廢氣治理。